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溅射镀膜膜层的优点


发布时间:2019-03-26 16:24:33

         以溅射的方法进行真空镀膜,由于其镀膜方式的不同,同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的,虽然肉眼无法看出来,但确实拥有一定的优势。

       膜厚稳定性好,由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系,电流越高,溅射效率越大,相同时间内,所镀膜层的厚度相对就大了,因为只要把电流数值控制好,需要镀多厚,或者多薄的膜层都可以了,当然这个厚度是在可允许的范围内,而且控制好电流,无论重复镀多少次,膜层厚度都不会变化,膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

溅射镀膜膜层的优点

       膜层结合力强,在溅射过程中,有部分电子撞击到基材表面,激活表面原子,并且产生清洁的作用,而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级,带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时,有更多的能量可以传递到基材上,产生更多的热能,使被电子激活的原子加速运动,与部分镀材原子更早互相溶合到一起,其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜,加强了膜层与基材的结合力。

    镀材范围广,由于溅射镀膜是通过氩离子的高速轰击使镀材溅射出来的,不像蒸发镀膜由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材,而溅射镀膜几乎所有固体的物质都可以成为镀材。

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